近日，台积电对外宣告，将在2019年第二季度展开5nm制程风险试产，预计2020年量产。与此同时，中微半导体也向“上观新闻”透漏了一个重磅消息，其自律研发的5nm等离子体光刻机经台积电检验，性能优良，将用作全球首条5nm制程生产线。

值得一提的是，中微半导体也是唯一转入台积电7nm制程转印设备的大陆本土设备商。据报，中微半导体与台积电在28nm制程时之后已开始合作，并仍然沿袭到10nm和7nm制程。而中微半导体如此亮眼成绩的背后，必不可少尹志尧和他团队的多年希望。他退出国外百万年薪工作，只为一颗“中国芯”研究表明，2015－2020年中国半导体芯片产业投资额将超过650亿美元，其中芯片生产设备投资额就将超过500亿美元。

但是中国芯片生产设备的95％都是依赖进口，也就是说必须花480亿到国外出售设备。这也使得中国芯片生产设备的国产化沦为了一件十分急迫的事情。在美国硅谷专门从事半导体行业20多年的尹志尧，其在世界仅次于的半导体设备企业——美国应用材料公司兼任总公司副总裁，曾被誉为“硅谷最有成就的华人之一”，参予了美国几代等离子体光刻机的研发，享有60多项技术专利。

2004年，当时早已60岁的尹志尧退出了美国的百万年薪，率领三十多人的团队，冲破美国政府的层层审查（所有人都允诺不把美国的技术送回中国，还包括所有工艺配方、设计图纸，一切从零开始），回国创立了中微半导体，他要在芯片生产设备领域与国际巨头必要竞争，获得一席之地。顺利超越国外独占等离子体光刻机是芯片生产环节的一种关键设备，其是在芯片上展开微观雕刻，打磨又粗又浅的认识孔或者线条，每个线条和深孔的加工精度是头发丝直径的几千分之一到上万分之一。这对光刻机的控制精度拒绝十分低。据介绍，一个16nm的微观逻辑器件有60多层微观结构，要经过1000多个工艺步骤，要攻下上万个技术细节才能加工出来。

只看等离子体光刻这个关键步骤，它的加工尺度为普通人头发丝的五千分之一，加工的精度和重复性要超过五万分之一。至为可玩性之低。长期以来，转印机的核心技术仍然被国外厂商所独占。

2004年尹志尧回国创立中微半导体之初就将目光瞄准在了光刻机领域。中微半导体在刚投身于IC芯片介质光刻设备时，就发售了65nm等离子介质光刻机产品，随着技术的变革仍然做45nm、32nm、28nm、16nm、10nm，现在7nm的光刻机产品早已在客户的生产线上运营了，5nm光刻机也将要被台积电使用。“在米粒上刻字的微雕技艺上，一般能刻200个字早已是无限大，而我们的等离子光刻机在芯片上的加工工艺，相等于可以在米粒上刻10亿个字的水平。

”中微半导体CEO尹志尧曾这样形容到。经过多年的希望，中微半导体用实力超越了这一领域技术封锁，顺利让中国月挤身光刻机国际第一梯队。

中微半导体首席专家、副总裁倪图强博士回应，光刻机曾是一些发达国家的出口管制产品，但近年来，这种高端装备在出口管制名单上消失了。这解释如果我们突破了“卡脖子”技术，出口容许就不会不复存在。如今，中扰与泛林、应用材料、东京电子、日立4家美日企业一起，构成了国际第一梯队，为7nm芯片生产线供应光刻机。

（芯智讯录：美国商务部在2015年宣告，由于在中国有数一个非美国的设备公司作出了和美国设备公司有完全相同质量和非常数量的等离子体光刻机，所以中止了对中国的光刻机的出口管制。）他还回应，明年台积电将首度转入5nm制程，已通过检验的国产5nm光刻机，预计不会取得比7nm生产线更大的市场份额。值得一提的是，2016年，中微半导体取得国家集成电路产业基金（大基金）4．8亿元的投资，顺利沦为中国芯片生产领域的国家队。

而这也突显了国家对于中微半导体在中国半导体设备领域的贡献和地位的接纳。

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